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Bitte beziehen Sie sich beim Zitieren dieses Dokumentes immer auf folgende
URN: urn:nbn:de:bsz:25-opus-11207
URL: http://www.freidok.uni-freiburg.de/volltexte/1120/


Häfele, Andreas

Funktionale dünne Schichten auf Polymeren durch die Deposition energiereicher Cluster

Functional thin films on polymers by energetic cluster deposition

Dokument1.pdf (5.522 KB) (md5sum: b88237bf2ce406e4207428374a7a1719)

Kurzfassung in Deutsch

Die Dissertation behandelt eine Weiterentwicklung des ECI-Verfahrens (Energetic Cluster Impact) und die damit mögliche Metallisierung bzw. Verglasung von Polymeren.
Das ECI-Verfahren ist ein PVD-Verfahren, bei dem durch die Deposition von Clusterionen hoher kinetischer Energie dünne Schichten im Bereich 5 bis 100 nm erzeugt werden. Schon bei Raumtemperatur zeichnen sich diese Schichten durch eine sehr gute Haftung auf der Unterlage, hohe Dichte, eine mikrokristalline Morphologie und eine glatte Oberfläche aus. Für das ursprünglich für Metalle konzipierte Verfahren wurde ein gepulster Betrieb entwickelt, bei dem die auf dem Substrat entstehende Oberflächenladung durch Elektronen neutralisiert wird. Damit wird der Einsatz nicht elektrisch leitfähiger Substrate und Clustermaterialien möglich. Als Anwendung wurde die Metallisierung von PMMA-Mikrostrukturträgern vorgenommen, ein Teilschritt des sog. LIGA-Verfahrens.
Weiter wurde ausführlich die Herstellung und Deposition von Oxidclustern untersucht. Dies ermöglichte erste Schritte zur Verglasung von Polycarbonat mit transparenten leitfähigen Oxiden.


Kurzfassung in Englisch

The scope of the thesis is the development of a new deposition mode of the ECI technique (Energetic Cluster Impact), offering the possibility to coat polymer substrates with metallic or oxide layers.
The ECI-technique is a PVD process using cluster ions of high kinetic energy to fabricate thin films in the range of 5 to 100 nm. Even at room temperature the ECI films show excellent adhesion to the substrate, nearly bulk density, a microkristalline morphology and a smooth surface. Being originally designed for metals only, a new pulsed deposition mode has been developed which is based on a neutralisation by electrons of the surface charge on the substrate. By this way the use of electrically isolating substrates and cluster materials is possible. One application has been the metallization of PMMA-microstructures as part of the so-called LIGA technique.
Further on the formation and deposition of oxide clusters has been extensively studied, enabling first steps towards a transparent conductive oxide coating of polycarbonate.


SWD-Schlagwörter: Clusterstrahl , Clusterverbindungen , Clusterion , Galvanische Beschichtung , Hartstoff / Beschichtung
Freie Schlagwörter (deutsch): Energetic Cluster Impact , Dünne Schichten
Freie Schlagwörter (englisch): Energetic Cluster Impact , thin films
Institut: Physikalisches Institut
Fakultät: Fakultät für Mathematik und Physik
DDC-Sachgruppe: Physik
Dokumentart: Dissertation
Erstgutachter: Haberland, Hellmut (Prof. Dr.)
Sprache: Deutsch
Tag der mündlichen Prüfung: 04.09.2003
Erstellungsjahr: 2003
Publikationsdatum: 22.12.2003
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